Материалы
1 июля 2013
Нанозернистые абразивы
CMP: суспензия SiO₂ 20–50 нм + щёлочь. Ra < 0,5 нм для кремниевых пластин. Золь-гелевые корунды (3М Cubitron): нанокристаллы 200–400 нм, режущая способность в 2–3 раза выше обычного.
Источник: Любомудров В.Н., Васильев Н.Н. «Абразивные инструменты и их изготовление».